中文名 | 高速旋轉(zhuǎn)激光直寫光刻機 | 產(chǎn)????地 | 中國 |
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學科領(lǐng)域 | 物理學、材料科學 | 啟用日期 | 2014年11月28日 |
通過激光與材料的相互作用,調(diào)節(jié)樣品臺旋轉(zhuǎn)及X軸運動速度,可以實現(xiàn)類光柵結(jié)構(gòu)點線陣列、任意圖形和灰度圖形的激光刻寫。
激光波長405 nm,分辨率達100nm。
蝕刻機可以分為化學蝕刻機及電解蝕刻機兩類。在化學蝕刻中是使用化學溶液,經(jīng)由化學反應以達到蝕刻的目的,化學蝕刻機是將材料用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。光刻機(Mask Aligner)...
使用中可能產(chǎn)生的問題及售后服務保證 (一).使用環(huán)境 雕刻機為高科技機電一體化設備,對工作環(huán)境有一定的要求。 1.避開強電、強磁等嚴重影響雕刻機信號傳輸?shù)脑O備。如:電焊機、發(fā)射塔等。 2.使用三芯電源...
木板激光刻字價格不高,影響激光雕刻的4個最根本的要素是:雕刻速度、激光功率、雕刻精度、材料。在特定材料上如要達到一定的雕刻效果,就要求吸收一定能量的激光,這一能量應看作是材料吸收的激光能量=激光功率/...
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評分: 4.4
伴隨著國內(nèi)市場競爭的日趨激烈,常規(guī)的MPW(多項目晶圓)布局也不能滿足客戶的要求,同時也不能最大限度地降低設計公司的研發(fā)成本,也不利于國內(nèi)foundry廠市場的開拓。鑒于此,文章著重提出了利用光刻機擋板把光罩進行區(qū)域劃分,在不增加流片和滿足客戶要求的前提下,使光罩得到最大限度的利用,降低了客戶的流片費用。通過在15cm片上流片驗證,更加突出了此優(yōu)化光罩布局的方法在研發(fā)成本和滿足客戶要求等方面的優(yōu)越性,因而這種布局對我國集成電路的發(fā)展和新產(chǎn)品的研發(fā)工作,特別是對國內(nèi)中小企業(yè)的成長提供了有力的支持,也為foundry廠贏得市場提供了重要的手段。
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頁數(shù): 6頁
評分: 4.5
設計并制作了一種基于激光直寫工藝的多模高聚物1×8光功率分配器。該器件采用了獨特的次級非對稱結(jié)構(gòu)實現(xiàn)了光功率在各個輸出端口的均勻分配。借助紫外激光直寫的方式,配合高精度平移臺實現(xiàn)了器件的加工,并將整個分配器的制作過程控制在5 min以內(nèi),從而在加工周期上頗具優(yōu)勢。對所得的分配器進行了性能測試,實驗結(jié)果表明,端口輸出光功率最大均勻度差異小于4%,證明了器件具有較為理想的分光性能。提出的激光直寫法結(jié)構(gòu)加工無需掩?;螂x子蝕刻等復雜加工手段,有助于大幅度提高制造效率并能夠有效地控制器件性能。
小型臺式無掩膜光刻機Microwriter ML3,通過激光直寫在光刻膠上直接曝光制作所需要的圖案,而無需掩膜版,專為實驗室設計開發(fā),適用于各種實驗室桌面。
Focus Lock自動對焦
Focus Lock技術(shù)是利用自動對焦功能對樣品表面高度進行探測,并通過Z向調(diào)整和補償,以保證曝光分辨率。
直寫前預檢查
軟件可以實時顯微觀測基體表面,并顯示預直寫圖形位置。通過調(diào)整位置、角度,直到設計圖形按要求與已有結(jié)構(gòu)重合,保證直寫準確。
標記物自動識別
點擊“Bulls-Eye”按鈕,系統(tǒng)自動在顯微鏡圖像中識別光刻標記。標記物被識別后,將自動將其移動到顯微鏡中心位置。
光學輪廓儀
Microwriter ML3 配備光學輪廓探測工具,用于勻膠后沉積層,蝕刻層,MEMS等前道結(jié)構(gòu)的形貌探測與套刻。Z向最高精度100 nm,方便快捷。
簡單的直寫軟件
MicroWriter ML3由一個簡單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會引導使用者進行簡單的布局設計、基片對準和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運行。
Clewin 掩模圖形設計軟件
可以讀取多種圖形設計文件(DXF, CIF, GDSII, 等)
可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式
書寫范圍只由基片尺寸決定
電子/半導體器件
微/納電機系統(tǒng)
自旋電子學
傳感器
微流控
材料科學
生物實驗室芯片
光子學
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