JJG74-2005工業(yè)過程測量記錄儀

過程測量與“成品測量”相對。一種偏重于操作過程的技能測定。在學生的職業(yè)技能訓練中常采用。注重學生操作的質量及效率，如操作程序、工作態(tài)度及速度等，以提供豐富的診斷性資料，有助于改善教學。方法主要是觀察，即由教師觀察學生的操作過程。

中文名稱

過程測量

英文名稱

process measurement

定　　義

獲取信息，以確定過程各變量的值的測量。

應用學科

機械工程（一級學科），工業(yè)自動化儀表與系統(tǒng)（二級學科），工業(yè)自動化儀表與系統(tǒng)一般名詞（三級學科）

全國工業(yè)過程測量和控制標準化技術委員會SAC/TC124（以下簡稱標委會）直屬中國國家標準化管理委員會，由全國工業(yè)自動化領域中的各單位選舉產(chǎn)生，是國際電工委員會IEC/TC65和ISO/TC30的國內對口單位。標委會的運作受中國國家標準化管理委員會領導，并接受中國機械工業(yè)聯(lián)合會及國家各有關部門的業(yè)務指導，在工業(yè)過程測量和控制領域內開展全國性標準化技術工作。

標委會的工作范圍是工業(yè)過程測量和控制領域，在國際上直接對口IEC/TC65“工業(yè)過程測量和控制”和ISO/TC30“封閉管道中流體流量的測量”。其主要工作包括：制定工業(yè)過程測量和控制用通信網(wǎng)絡協(xié)議標準，各類儀器儀表、執(zhí)行機構、控制設備標準和安全標準。

標委會目前下設6個分委會，分別是SC1“溫度、物位、機械量儀表及結構裝置分委會”，SC2“控制儀表及裝置、工業(yè)控制計算機系統(tǒng)分委會”，SC3“壓力儀表分委會”，SC4“工業(yè)通信（現(xiàn)場總線）及系統(tǒng)分委會”，SC5“可編程序控制器及系統(tǒng)分委會”和SC6“分析儀器及分析技術分委會”。標委會現(xiàn)有委員近300人，分布在全國各有關行業(yè)。

橢偏儀測量橢偏參數(shù)

在橢偏測量過程中，有兩個橢偏參數(shù)非常關鍵。（標準）橢圓偏振測量四個史托克參數(shù)(Stokes parameters)中的兩個，通常以Δ及Φ來表示。TanΦ為反射后之振幅比，Δ為相位移（相差）。由于橢圓偏振系測量兩項之比值（或差異）而非其絕對數(shù)值，因此這技術所得的數(shù)據(jù)是相當正確且可再現(xiàn)的，其對散射及擾動等因素較不敏感，且不需要標準樣品或參考樣品。

橢偏儀測量數(shù)據(jù)分析和擬合

橢圓偏振為間接量測的技術，也就是說，一般測得的Δ及Φ并不能直接轉換為樣品的光學常數(shù)，通常需要建構模型來進行分析。只有對于無限厚（約厘米等級）、各向同性且均勻的膜，才可能直接轉換得到其Δ及Φ之數(shù)值。在所有其他的情形下，則必需建構其層狀模型，并考慮所有各層之各別的光學常數(shù)如(折射率或介電常數(shù))及厚度，且依正確的層畳順序建立。再借由多次最小方差法最適化，變動未知的光學常數(shù)及(或)厚度參數(shù)，以之代入菲涅耳方程計算求得其對應Δ及Φ數(shù)值。最后，所得最接近實驗數(shù)據(jù)之Δ及Φ數(shù)值，其參數(shù)來源的光學常數(shù)及(或)厚度可視為此量測之最適化結果。

橢偏儀測量橢偏測量結果

橢偏測量可取得薄膜的介電性質（復數(shù)折射率或介電常數(shù)）。它已被應用在許多不同的領域，從基礎研究到工業(yè)應用，如半導體物理研究、微電子學和生物學。橢圓偏振是一個很敏感的薄膜性質測量技術，且具有非破壞性和非接觸之優(yōu)點。

分析自樣品反射之偏振光的改變，橢圓偏振技術可得到膜厚比探測光本身波長更短的薄膜資訊，小至一個單原子層，甚至更小。橢圓儀可測得復數(shù)折射率或介電函數(shù)張量，可以此獲得基本的物理參數(shù)，并且這與各種樣品的性質，包括形態(tài)、晶體質量、化學成分或導電性，有所關聯(lián)。它常被用來鑒定單層或多層堆棧的薄膜厚度，可量測厚度由數(shù)埃（Angstrom）或數(shù)納米到幾微米皆有極佳的準確性。

橢偏儀測量被測材料

半導體物理、通訊、數(shù)據(jù)存儲、光學鍍膜、平板顯示器、表界面科學研究、物理、化學、生物、醫(yī)藥、介電材料、有機高分子聚合物、金屬氧化物、金屬鈍化膜、各種液體薄膜、自組裝單分子層、多層膜物質等等