組成
該設(shè)備主要由上料臺(tái)、清洗部分、移載機(jī)械手、旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、抽風(fēng)系統(tǒng)及電控部分組成。
描述
1. 此裝置是一個(gè)全自動(dòng)的處理設(shè)備。
2. 10.4英寸大型觸摸屏顯示 / 檢測(cè) / 操作。
3. 清洗工作過(guò)程由 歐姆龍系列PLC控制。
4. 清洗作業(yè)員將裝滿(mǎn)工件的清洗籃放置在進(jìn)料臺(tái)上,清洗籃根據(jù)設(shè)定的程序,自動(dòng)依次送到各工位,對(duì)工件進(jìn)行清洗、漂洗,漂洗后的工件由鏈條傳輸?shù)较铝衔唬涉湕l送出,最后由作業(yè)員將清洗籃取走。
被清洗物
硅料多晶邊皮,頂料,片料,堝底料以及原生多晶料等。2100433B
1、硅片晶圓超聲波清洗機(jī)能清洗硅片。2、硅片晶圓生產(chǎn)清洗工藝中,使用超聲波清洗機(jī)有效去除硅片晶圓表面的有機(jī)物、顆粒、金屬雜質(zhì)、自然氧化層及石英、塑料等附件器皿的污染物,且不破壞晶片表面特性。根據(jù)不同清...
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全自動(dòng)硅片清洗機(jī)手動(dòng)硅片清洗機(jī)附件及工具清洗設(shè)備石英管清洗機(jī)酸堿清洗臺(tái)有機(jī)化學(xué)超凈工作臺(tái)部件清洗臺(tái)氮?dú)鈨?chǔ)存柜硅片清洗設(shè)備特點(diǎn)手動(dòng)硅片清洗設(shè)備特點(diǎn):可根據(jù)不...
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FWA-7108TKC使用說(shuō)明書(shū) 蘇州富怡達(dá)超聲波有限公司 第 1頁(yè),共 20 頁(yè) 目 錄 一、 設(shè)備概述 ····································· 2 二、 設(shè)備各主要組成部份功能 ··························· 2 三、 清洗工藝流程、溫度及時(shí)間的選擇方法 ················· 6 四、 使用前的準(zhǔn)備工作 ······························ 8 五、 操作使用說(shuō)明 ·································· 9 六、 使用注意事項(xiàng) ·································· 12 七、 常見(jiàn)故障排除方法 ······························ 13 八、 維護(hù)與保養(yǎng) ··············
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成都理工大學(xué)(畢業(yè)設(shè)計(jì)) 1 成都理工大學(xué)(崇州校區(qū)) 學(xué)生畢業(yè)設(shè)計(jì)(論文) 題目名稱(chēng): 五槽全自動(dòng)超聲波清洗機(jī) 學(xué)院名稱(chēng): 成都理工大學(xué)繼續(xù)教育學(xué)院 專(zhuān)業(yè)名稱(chēng): 電氣工程及其自動(dòng)化 學(xué)生姓名: 南 強(qiáng) 班 級(jí): 0701 指導(dǎo)教師: __________________________________ 年 月 日 成都理工大學(xué)(畢業(yè)設(shè)計(jì)) 2 學(xué)生畢業(yè)設(shè)計(jì)(論文)誠(chéng)信承諾書(shū) 本人鄭重聲明所呈交的畢業(yè)設(shè)計(jì) (論文)是本人在指導(dǎo)教師指導(dǎo) 下進(jìn)行研究撰寫(xiě)的成果。 據(jù)我所知,除了文中特別加以標(biāo)注和致謝的 地方外,論文中不包含其他人已經(jīng)發(fā)表或撰寫(xiě)過(guò)的研究成果。 與我一 同工作的同學(xué)及其他技術(shù)人員對(duì)本文研究所做的貢獻(xiàn)均已在論文中 作了明確的說(shuō)明并表示謝意。 學(xué)生本人(簽名): 年 月 日 成都理工大學(xué)(畢業(yè)設(shè)計(jì)) 3 學(xué)生畢業(yè)設(shè)計(jì)(論文)任務(wù)書(shū) 學(xué)生姓名: 學(xué)號(hào): 專(zhuān)業(yè)名稱(chēng): 題目類(lèi)型:
硅片回收技術(shù)硅片回收分類(lèi)
硅料,硅片,太陽(yáng)能電池片,單晶電池,多晶電池(整片碎片),125電池片,156電池片,單晶電池片,多晶電池片,半導(dǎo)體硅片,太陽(yáng)能硅片,單晶硅片,多晶硅片,高效/低效太陽(yáng)能電池片,崩邊缺角太陽(yáng)能電池片,太陽(yáng)能電池板組件,太陽(yáng)能電池碎片,單晶碎電池片,多晶碎電池片,破碎電池片,碎硅片,電池?cái)U(kuò)散碎片,廢硅片,電池裸片,拋光片,光刻片,彩片,藍(lán)膜片,單晶硅棒,多晶硅錠,硅塊,原生多晶,頂側(cè)邊皮料,單晶邊皮,多晶邊皮,硅頭尾料,鍋底料,單晶硅,多晶硅等各類(lèi)硅材料。硅片回收的準(zhǔn)備過(guò)程從硅單晶棒開(kāi)始,到清潔的拋光片結(jié)束,以能夠在絕好的環(huán)境中使用。期間,從一單晶硅棒到加工成數(shù)片能滿(mǎn)足特殊要求的硅片要經(jīng)過(guò)很多流程和清洗步驟。除了有許多工藝步驟之外,整個(gè)過(guò)程幾乎都要在無(wú)塵的環(huán)境中進(jìn)行。硅片的加工從一相對(duì)較臟的環(huán)境開(kāi)始,最終在10級(jí)凈空房?jī)?nèi)完成。 硅片回收加工過(guò)程包括許多步驟。所有的步驟概括為三個(gè)主要種類(lèi):能修正物理性能如尺寸、形狀、平整度、或一些體材料的性能;能減少不期望的表面損傷的數(shù)量;或能消除表面沾污和顆粒。硅片加工的主要的步驟如表1.1的典型流程所示。硅片回收技術(shù)步驟的順序是很重要的,因?yàn)檫@些步驟的決定能使銀漿回收受到盡可能少的損傷并且可以減少硅片的沾污。在以下的章節(jié)中,每一步驟都會(huì)得到詳細(xì)介紹。
原片高阻 | 片面干凈且兩面均為灰色的碎硅片 |
片面干凈且兩面均為光澤的碎硅片 | |
片面干凈且一面灰色另一面光澤的碎硅片 | |
拋光片高阻 | 片面干凈且兩面均可作鏡子的碎硅片 |
片面干凈且一面可作鏡子另一面光澤或灰色的碎硅片 | |
工藝片高阻 | 高阻片的邊緣重慘 |
拋光片片面重慘 | |
碎硅片帶條紋 | |
碎硅片帶格子 | |
碎硅片帶顏色 |
碎硅片?分類(lèi)
除去碎硅片中雜質(zhì)的部分,按半導(dǎo)體阻態(tài),碎硅片可分為高阻片和重慘片;其中高阻片按照生產(chǎn)工藝可分為:原片高阻、拋光片高阻和工藝片高阻。