聯(lián)絡(luò)線偏差控制

母線聯(lián)絡(luò)柜，也叫母線分段柜，是用來連接兩段母線的設(shè)備。

在單母線分段、雙母線系統(tǒng)中常常要用到母線聯(lián)絡(luò)柜，以滿足用戶選擇不同運行方式的要求或保證故障情況下有選擇的切除負(fù)荷。

表12 ～ 表15 列出國內(nèi)外標(biāo)準(zhǔn)中鋁合金板材的對角線允許偏差。新版GB T 3880 標(biāo)準(zhǔn)中板材的對角線允許偏差與EN485-4 標(biāo)準(zhǔn)中的基本一致。

ANSI 35 .2 M標(biāo)準(zhǔn)中板材的對角線允許偏差與GB T3194 標(biāo)準(zhǔn)中高精級板材的一致。

表12 　新版GB T 3880 標(biāo)準(zhǔn)中高精級A 類板材的對角線允許偏差

表13 　新版GB T 3880 標(biāo)準(zhǔn)中高精級B 類板材的對角線允許偏差

表14 　EN485-4 標(biāo)準(zhǔn)中板材的對角線允許偏差

表15 　ANSI35 .2 M 標(biāo)準(zhǔn)中板材的對角線允許偏差

掩模之間的主要表現(xiàn)在線寬的偏差（offset）。由于制備工藝的差別，一個掩模上所有的關(guān)鍵圖形處的線寬通常比另一個掩模的對應(yīng)線寬相差一個固定值，這個偏差又被稱為“global CD offset”。這種固定的掩模線寬偏差會導(dǎo)致曝光圖像線寬變化的不均勻性，MEEF值是和掩模圖形尺寸及其周圍圖形相關(guān)聯(lián)的，掩模上的這種線寬變化必然會導(dǎo)致晶圓上“through-pitch”行為的不同。而且，線寬對曝光劑量的敏感度（exposure latitude）也會發(fā)生變化。因此，必須調(diào)整光照條件來補償這種變化 。

在量產(chǎn)時，同一個光刻層可能存在兩塊或者兩塊以上的掩模，這些掩模用于多個光刻機，增大光刻的產(chǎn)能。理論上，這些掩模應(yīng)該是相同的（nominally identical reticles）；實際上，由于掩模制備工藝的不穩(wěn)定性，每一個掩模參數(shù)與目標(biāo)值的偏差不完全一樣（particular difference in their mean-to-target）。甚至，這些掩?？赡軄碜杂诓煌醚谀９S，掩模工廠之間的設(shè)備就存在偏差。掩模匹配是通過精細(xì)調(diào)整光刻機的曝光參數(shù)，使得不同掩模在同一臺光刻機上曝光得到的結(jié)果一致。2100433B