集成電路版圖基礎(chǔ)——實(shí)用指南圖書(shū)目錄

第1章 電路基礎(chǔ)理論

1．1 內(nèi)容提要

1．2 引言

1．3 基本電路回顧

1．3．1 同性相斥，異性相吸

1．3．2 基本單位

1．3．3 串聯(lián)公式

1．3．4 并聯(lián)公式

1．3．5 歐姆定律

1．3．6 基爾霍夫定律

1．3．7 電路單元符號(hào)

1．4 導(dǎo)體、絕緣體和半導(dǎo)體

1．5 半導(dǎo)體材料

1．5．1 N型材料

1．5．2 P型材料

1．6 PN結(jié)

1．6．1 勢(shì)壘

1．6．2 通過(guò)勢(shì)壘的電流

1．6．3 二極管

1．6．4 二極管應(yīng)用

1．7 半導(dǎo)體開(kāi)關(guān)

1．7．1 一個(gè)燈開(kāi)關(guān)的例子*

1．8 場(chǎng)效應(yīng)

1．8．1 場(chǎng)效應(yīng)晶體管*

1．9 開(kāi)關(guān)隔離

1．10 增強(qiáng)型器件和耗盡型器件

1．11 互補(bǔ)型開(kāi)關(guān)

1．12 N阱和襯底接觸

1．13 邏輯電路

1．13．1 用電壓表示邏輯狀態(tài)

1．13．2 CMOS邏輯電路

1．13．3 與非門(mén)

1．13．4 或非門(mén)

結(jié)束語(yǔ)

本章學(xué)過(guò)的內(nèi)容

應(yīng)用練習(xí)

第2章硅加工工藝

2．1 內(nèi)容提要

2．2 引言

2．3 集成電路版圖

2．3．1 基本矩形

2．4 硅晶圓制造

2．5 摻雜

2．5．1 離子注入

2．5．2 擴(kuò)散

2．6 生長(zhǎng)材料層

2．6．1 外延

2．6．2 化學(xué)氣相沉積

2．6．3 氧化層生長(zhǎng)

2．6．4 濺射

2．6．5 蒸發(fā)

2．7 去除材料層

2．8 光刻

2．9 芯片制造

2．9．1 下凹圖形的加工

2．9．2 凸起圖形的加工

2．9．3 平坦化

2．9．4 作為掩模的二氧化硅

2．10 自對(duì)準(zhǔn)硅柵

……

第3章 CMOS版圖

第4章 電阻

第5章 電容

第6章 雙極型晶體管

第7章 二極管

第8章 電感

術(shù)語(yǔ)

《集成電路版圖基礎(chǔ)：實(shí)用指南/電子信息前沿技術(shù)叢書(shū)》從基礎(chǔ)半導(dǎo)體理論開(kāi)始，循序漸進(jìn)地介紹基本集成電路單元的版圖設(shè)計(jì)。在較深的程度上為讀者提供有價(jià)值的設(shè)計(jì)方程以及設(shè)計(jì)IC版圖的方法與技術(shù)，這些知識(shí)將使讀者終生受益。

1 以風(fēng)趣幽默、圖文并茂、循序漸進(jìn)的方式闡述知識(shí)，并插入軼事和佐證加以調(diào)侃，可讀性強(qiáng)。

2 在介紹版圖設(shè)計(jì)的同時(shí)說(shuō)明為什么要這樣設(shè)計(jì)，使讀者知其然，并知其所以然，啟發(fā)性強(qiáng)。

3 重點(diǎn)介紹版圖設(shè)計(jì)的基礎(chǔ)知識(shí)，對(duì)于新入行的從業(yè)者，這是一個(gè)良好的開(kāi)端；對(duì)于有經(jīng)驗(yàn)的設(shè)計(jì)者，則可作為對(duì)設(shè)計(jì)經(jīng)驗(yàn)的回味和思考。

購(gòu)房投資實(shí)用指南：買(mǎi)房前一定要看的實(shí)用指南（VCD）

主　演：蔣舉（主講） 碟 片 數(shù)：1

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編輯推薦主講：蔣舉，資深房產(chǎn)投資專家，歷任《北京樓市周刊》主編、北京晚報(bào)房地產(chǎn)部首席記者評(píng)論員、北京搜房主編等；策劃：董成竹。

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