hf

具有弱酸性，但濃時的電離度比稀時大而與一般弱電解質(zhì)有別。腐蝕性強，對牙、骨損害較嚴重。對硅的化合物有強腐蝕性。應在密閉的塑料瓶內(nèi)保存。用氟氣(F?)溶于水而得。用于雕刻玻璃、清洗鑄件上的殘砂、控制發(fā)酵、電拋光和清洗腐蝕半導體硅片(與HNO3的混酸)。因為氫原子和氟原子間結(jié)合的能力相對較強，使得氫氟酸在水中不能完全電離。氫氟酸能夠溶解很多其他酸都不能溶解的玻璃(二氧化硅)，生成氣態(tài)的四氟化硅 反應方程式如下:?

SiO?(s) + 4 HF(aq) → SiF4↑ + 2 H?O(l)

正因如此，它必須儲存在塑料(理論上講，放在聚四氟乙烯做成的容器中會更好)、蠟質(zhì)制或鉛制的容器中。氫氟酸沒有還原性。如果要長期儲存，不僅需要一個密封容器，而且容器中應盡可能將空氣排盡。

工業(yè)制法:工業(yè)上用氟氫化鉀加熱至500℃進行熱分解或用螢石(氟化鈣CaF2)和濃硫酸加熱到700℃時來制備氫氟酸。

KHF2 --(500℃)→ KF + HF

CaF2 + H2SO4 (濃)→(加熱) 2 HF + CaSO4

這樣收集到的氟化氫常含有水，硅及硫的化合物。在此之后氟化氫可以通過蒸餾等方法來提純。 這個反應生成的蒸氣是氟化氫、硫酸和其他幾種副產(chǎn)品的混合物。在此之后氟化氫可以通過蒸餾來提純。

氟氣與氫氣混合后立刻爆炸，生成氟化氫

F?(g)+H?(g)=2HF(g)

化學試劑氫氟酸 GB/T620-1993

工業(yè)氫氟酸GB7744-1998

氫氟酸是氟化氫氣體的水溶液，為無色透明至淡黃色冒煙液體。有刺激性氣味。分子式 :HF·H2O相對密度 1.15~1.18。沸點 112.2℃(按重量百分比計為38.2%)。市售通常濃度:約40%,44% ，其溶質(zhì)的質(zhì)量分數(shù)可達35.35%。有劇毒。最濃時的密度1.14g/cm3，熔點293.15K(20℃)。

由于氫氟酸溶解氧化物的能力，它在鋁和鈾的提純中起著重要作用。氫氟酸也用來蝕刻玻璃(在玻璃表面均勻的涂一層致密的石蠟將要雕刻的地方用刻刀刮去，根據(jù)實際情況放入裝有Hf 的池子中進行雕刻處理)，半導體工業(yè)使用它來除去硅表面的氧化物，在煉油廠中它可以用作異丁烷和丁烷的烷基化反應的催化劑，除去不銹鋼表面的含氧雜質(zhì)的"浸酸"過程中也會用到氫氟酸。氫氟酸也用于多種含氟有機物的合成，比如Teflon(聚四氟乙烯)，還有氟利昂一類的制冷劑。