玻璃表面處理

1 概論

1.1 玻璃表面處理的發(fā)展概況

1.2 玻璃表面處理的特點(diǎn)和分類

1.2.1 玻璃表面處理的特點(diǎn)

1.2.2表面處理的分類

1.3 玻璃表面處理的基片（基板）和坯體

1.3.1 對(duì)玻璃基片和坯體的要求

1.3.2 玻璃表面處理用基片

1.3.3 玻璃表面處理用坯體

2 玻璃表面的研究方法

2.1 表面研究方法的基本原理

2.1.1 電子激發(fā)源

2.1.2 離子激發(fā)源

2.1.3 電磁波激發(fā)源

2.2 各種表面研究方法的特點(diǎn)

2.3 各種表面研究方法在玻璃中的應(yīng)用

2.3.1 掃描電鏡（SEM）

2.3.2 掃描隧道顯微鏡（STM）

2.3.3 原子力顯微鏡（AFM）

2.3.4 電子探針X射線顯微分析（EPMA）

2.3.5 俄歇電子能譜（AES）

2.3.6 二次離子質(zhì)譜（SIMS）

2.3.7 背離子散射譜（RBS）

2.3.8 X射線光電子能譜（XPS）

2.3.9 紅外反射譜（IRRS）與傅立葉轉(zhuǎn)換紅外漫反射譜（DRIF"r）

2.3.10 核反應(yīng)分析（NRA）

3 玻璃表面結(jié)構(gòu)與特性

3.1 玻璃的表面能

3.1.1 液態(tài)和固態(tài)的表面能

3.1.2 玻璃的表面能

3.2 玻璃表面的化學(xué)組成

3.2.1 平板玻璃表面組成

3.2.2 瓶罐玻璃表面組成

3.2.3 玻璃纖維表面組成

3.3 玻璃的表面結(jié)構(gòu)

4 玻璃表面的物理性質(zhì)

4.1 玻璃表面力學(xué)性質(zhì)

4.1.1 玻璃表面的微裂紋

4.1.2 玻璃表面對(duì)力學(xué)性質(zhì)的影響

4.2 玻璃表面的光學(xué)性質(zhì)

4.2.1 玻璃表面粗糙度對(duì)光反射和透射的影響

4.2.2 玻璃界面上光的反射率

4.2.3 玻璃表面組成對(duì)反射和折射的影響

4.3 玻璃表面的電學(xué)性質(zhì)

4.3.1 濕度與溫度的影響

4.3.2 玻璃化學(xué)組成的影響

4.3.3 玻璃表面狀態(tài)對(duì)表面電導(dǎo)率的影響

4.3.4 測(cè)定條件的影響

5 玻璃表面的物理化學(xué)性質(zhì)

5.1 玻璃表面的吸附

5.1.1 玻璃表面對(duì)氣體的吸附

5.1.2 玻璃表面對(duì)水的吸附

5.1.3 玻璃表面對(duì)其他物質(zhì)的吸附

5.2 玻璃表面的離子擴(kuò)散

5.2.1 擴(kuò)散的機(jī)理和動(dòng)力學(xué)

……

6 玻璃表面的化學(xué)性質(zhì)

7 玻璃表J面的清潔處理

8 玻璃表面的機(jī)械處理

9 玻璃表面化學(xué)處理

10 玻璃表面增強(qiáng)

11 玻璃表面鍍膜

12 玻璃表面的貼膜和夾膜

13 玻璃表面施釉

14 玻璃表面裝飾

15 玻璃表面離子注人和輻照處理

參考文獻(xiàn)

玻璃的表面狀態(tài)對(duì)玻璃性能有很大的影響，利用表面處理技術(shù)進(jìn)行改性，設(shè)備簡(jiǎn)單，原材料消耗少，成本低廉，產(chǎn)品的附加值高。本書從玻璃表面研究方法、玻璃表面結(jié)構(gòu)與特性的理論入手，闡述玻璃表面機(jī)械處理（切割、鉆孔、研磨、拋光、刻花、砂雕），化學(xué)處理（脫堿、防霉、蒙砂、蝕刻、化學(xué)拋光），增強(qiáng)（熱鋼化、化學(xué)鋼化、涂層），鍍膜（化學(xué)鍍膜、物理鍍膜、各類功能膜），表面施釉、表面裝飾（金飾、擴(kuò)散著色、冰花、冰砂、彩雕），離子注入、輻照處理等配方與工藝。作者是在收集國(guó)內(nèi)外大量資料的基礎(chǔ)上，結(jié)合最新科研成果和生產(chǎn)實(shí)踐撰寫而成的，不是照抄搬地介紹玻璃表面處理技術(shù)，而是將闡述玻璃表面處理的材料配方和工藝原理與技術(shù)相結(jié)合，使讀者可舉一反三。

本書可供玻璃制造和加工、建筑、化工、建材、裝飾行業(yè)的科技人員、技工閱讀，也可作為大專院校的教材和參考書。

聚晶玻璃配料

PU色漆[含透明漆、白色漆、紅色漆、黃色漆、藍(lán)色漆、綠色漆、黑色漆、紫色漆]、PU固化劑、PU開油水、玻璃表面處理劑。

聚晶玻璃使用方法

先將玻璃表面噴一遍玻璃表面處理劑，然后將PU色漆和PU固化劑和開油水，按：PU色漆：PU固化劑：PU開油水=2：1：1.5～2比例混合，用噴槍將混合溶液噴到清潔干凈的玻璃上，加溫80℃半小時(shí)即干或自干4小時(shí)。