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處理腔是高頻電磁水處理器的重要組成部件,為了確定何種處理腔結(jié)構(gòu)對高頻電磁阻垢除垢具有更佳的效果,利用Ansoft Maxwell軟件建立了有限元模型,對兩種常見的處理腔,即同軸電極式處理腔和纏繞電極式處理腔內(nèi)的電磁場能量分布進行仿真計算,比較了兩種處理腔向水體釋放電磁能量的大小以及處理腔內(nèi)觀測點的瞬時能量密度的分布特征。仿真分析表明,當(dāng)施加相同的激勵源并處理相同體積的水時,同軸電極式處理腔內(nèi)的電磁能量遠大于纏繞電極式處理腔;但是同軸電極式處理腔內(nèi)電磁能量分布不均勻,由陽極向陰極依次遞減,而纏繞電極式處理腔內(nèi)電磁能量分布較為均勻。這些結(jié)論對于高頻電磁水處理器處理腔的設(shè)計具有重要的指導(dǎo)意義。
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