在真空條件下,利用電子槍蒸發(fā)和電阻蒸發(fā)及磁控濺射夾來(lái)完成鍍膜工作并配到內(nèi)置離子束來(lái) 完成輔助沉積。 2100433B
1、機(jī)片尺寸為10*10毫米;2、基片(樣品)加熱溫度為300度;3、漏率小于10e-7pa;4、極限真空5*10e-4pa;5、從大氣抽氣6。6*10e-6pa。
凱德利冷機(jī)很高興回答真空鍍膜機(jī)械,一般應(yīng)用在光學(xué)、光伏、太陽(yáng)能等行業(yè)。這類設(shè)備上面冷卻系統(tǒng)常跟這類廠家配套,比較了解。做這個(gè)比較好的一般分布廣東、大連、青島等地
要看鍍什么產(chǎn)品,比如化妝品、車燈、電子產(chǎn)品、酒瓶等對(duì)機(jī)器的要求都不一樣
真空鍍膜設(shè)備,主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。
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<正>由東北大學(xué)張以忱主編的真空工程技術(shù)叢書:《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行?!墩婵斟兡ぜ夹g(shù)》主要內(nèi)容:薄膜基礎(chǔ)理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術(shù)、真空
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<正>由東北大學(xué)張以忱主編的真空工程技術(shù)叢書:《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行?!墩婵斟兡ぜ夹g(shù)》主要內(nèi)容:薄膜基礎(chǔ)理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術(shù)、真空
蒸發(fā)是指物質(zhì)從液態(tài)轉(zhuǎn)化為氣態(tài)的相變過(guò)程。
蒸發(fā)和沸騰都是汽化現(xiàn)象,是汽化的兩種不同方式。蒸發(fā)是在液體表面發(fā)生的汽化過(guò)程,沸騰是在液體內(nèi)部和表面上同時(shí)發(fā)生的劇烈的汽化現(xiàn)象。溶液的蒸發(fā)(evaporation)通常是指通過(guò)加熱使溶液中一部分溶劑汽化,以提高溶液中非揮發(fā)性組分的濃度(濃縮)或使溶質(zhì)從溶液中析出結(jié)晶的過(guò)程。通常,溫度越高、液面暴露面積越大,蒸發(fā)速率越快;溶液表面的壓強(qiáng)越低,蒸發(fā)速率越快。
單位質(zhì)量的某種液體變成氣體時(shí)所吸收的熱量,叫做這種氣體的蒸發(fā)熱。
蒸發(fā)熱又叫汽化熱,與熔化熱、升華熱統(tǒng)稱為相變熱或潛熱(latent heat)。
計(jì)算蒸發(fā)熱常用里德?tīng)柺剑?
式中,△H為正常沸點(diǎn)下的蒸發(fā)熱;R為摩爾氣體常數(shù);
計(jì)算蒸發(fā)熱還常用沃森式:
式中下標(biāo)1和2分別表示兩個(gè)不同溫度。此式用于從某一溫度下的蒸發(fā)熱計(jì)算另一溫度下的蒸發(fā)熱。