ICP干法刻蝕系統(tǒng)基本信息

中文名 ICP干法刻蝕系統(tǒng) 產(chǎn)????地 英國
學(xué)科領(lǐng)域 統(tǒng)計(jì)學(xué) 啟用日期 2006年8月1日
所屬類別 分析儀器 > 電子光學(xué)儀器

ICP干法刻蝕系統(tǒng)。 2100433B

ICP干法刻蝕系統(tǒng)造價(jià)信息

市場價(jià) 信息價(jià) 詢價(jià)
材料名稱 規(guī)格/型號 市場價(jià)
（除稅）		 工程建議價(jià)
（除稅）		 行情 品牌 單位 稅率 供應(yīng)商 報(bào)價(jià)日期
黑色蝕刻鏡 5mm厚 查看價(jià)格 查看價(jià)格

m2 13% 天津市津南區(qū)共創(chuàng)玻璃加工廠
橫卡蝕刻門 單扇門面積以2.1m2(單門寬度≤950mm),蝕刻門系列 查看價(jià)格 查看價(jià)格

扇 13% 南昌市佳音科技發(fā)展有限公司
干法脫硫 1600m3/h,含脫硫劑,監(jiān)測裝置,一用一備【GLDZ】 查看價(jià)格 查看價(jià)格

無錫軍湖

 座 13% 無錫市軍湖通用設(shè)備廠
鏡面8k黑鈦蝕刻不銹鋼板-不規(guī)則蝕刻 品種:鏡面不銹鋼板;規(guī)格(mm):1.0×1220×2440;厚度(mm):1;類型:蝕刻不銹鋼板;牌號:201;說明:可提供厚度:0.8、 查看價(jià)格 查看價(jià)格

m2 13% 北京東方通順不銹鋼有限公司
煙感系統(tǒng) 煙感系統(tǒng) 查看價(jià)格 查看價(jià)格

中霍

 套 13% 廣東霍曼實(shí)業(yè)有限公司
通體干法瓷磚 800×800;品種:通體磚;用途:墻地磚;型號:J8080X-2;色號:二類色;包裝規(guī)格:3片/箱; 查看價(jià)格 查看價(jià)格

百納

 片 13% 佛山市百納陶瓷有限公司
發(fā)紋黑鈦蝕刻不銹鋼板-連圈 品種:蝕刻不銹鋼板;規(guī)格(mm):1.0×1220×2440;厚度(mm):1;類型:蝕刻不銹鋼板;牌號:201;說明:可提供厚度:0.8、 查看價(jià)格 查看價(jià)格

m2 13% 北京東方通順不銹鋼有限公司
發(fā)紋本色蝕刻不銹鋼板 品種:蝕刻不銹鋼板;規(guī)格(mm):1.0×1220×2440;厚度(mm):1;類型:蝕刻不銹鋼板;牌號:201;說明:可提供厚度:0.8、 查看價(jià)格 查看價(jià)格

m2 13% 北京東方通順不銹鋼有限公司
材料名稱 規(guī)格/型號 除稅
信息價(jià)		 含稅
信息價(jià)		 行情 品牌 單位 稅率 地區(qū)/時(shí)間
高壓噴藥系統(tǒng) 查看價(jià)格 查看價(jià)格

臺班 汕頭市2012年2季度信息價(jià)
高壓噴藥系統(tǒng) 查看價(jià)格 查看價(jià)格

臺班 汕頭市2011年3季度信息價(jià)
高壓噴藥系統(tǒng) 查看價(jià)格 查看價(jià)格

臺班 汕頭市2011年2季度信息價(jià)
高壓噴藥系統(tǒng) 查看價(jià)格 查看價(jià)格

臺班 廣州市2011年1季度信息價(jià)
高壓噴藥系統(tǒng) 查看價(jià)格 查看價(jià)格

臺班 汕頭市2011年1季度信息價(jià)
高壓噴藥系統(tǒng) 查看價(jià)格 查看價(jià)格

臺班 汕頭市2010年3季度信息價(jià)
高壓噴藥系統(tǒng) 查看價(jià)格 查看價(jià)格

臺班 汕頭市2010年2季度信息價(jià)
高壓噴藥系統(tǒng) 查看價(jià)格 查看價(jià)格

臺班 汕頭市2010年1季度信息價(jià)
材料名稱 規(guī)格/需求量 報(bào)價(jià)數(shù) 最新報(bào)價(jià)
（元）		 供應(yīng)商 報(bào)價(jià)地區(qū) 最新報(bào)價(jià)時(shí)間
干法絹云母粉 白度82%,600目,純度大于等于90%|4984t 1 查看價(jià)格 北京慕湖外加劑廠 北京  北京市 2015-07-08
ICP-MS 詳情請見圖紙|1臺 1 查看價(jià)格 賽默飛世爾科技（中國）有限公司 全國   2019-09-23
半干法反應(yīng)塔系統(tǒng)-伴熱 300-400W/m2|3.0個(gè) 1 查看價(jià)格 廣州追遠(yuǎn)電氣機(jī)械有限公司    2015-08-07
MT系統(tǒng)及附件 ICP-MT3-4|9613個(gè) 4 查看價(jià)格 廣州善安安防科技有限公司 廣東  廣州市 2015-05-06
白玻夾膠(干法)玻璃 5mm|1079m2 1 查看價(jià)格 成都雙強(qiáng)玻璃有限公司 四川  成都市 2015-04-17
MT系統(tǒng)及附件 ICP-MT3-2|9479套 4 查看價(jià)格 廣州市澳星電子有限公司 廣東  廣州市 2015-11-12
MT系統(tǒng)及附件 ICP-MT3-2|2346個(gè) 4 查看價(jià)格 廣州善安安防科技有限公司 廣東  廣州市 2015-04-10
MT系統(tǒng)及附件 ICP-MTPS-12V2A|582套 4 查看價(jià)格 廣州市澳星電子有限公司 廣東  廣州市 2015-11-02

1*10-6pa。

ICP干法刻蝕系統(tǒng)常見問題

  • 刻蝕不銹鋼板多少錢一平

    一般按張來算，一張多少錢加工費(fèi)。

  • 雕花玻璃用什么刻蝕有誰比較熟悉

    應(yīng)該是用的吧，能和玻璃的主要成分二氧化硅反應(yīng)。要能腐蝕玻璃的才行，B能與玻璃中的SiO2反應(yīng)。燒堿堿反應(yīng)很慢，而且光滑的表面還不能腐蝕。其他的不能反應(yīng)。希望我的回答對你有幫助

  • 高爐除塵系統(tǒng)(干法除塵或者濕法除塵)

    你可以在專業(yè)的機(jī)械設(shè)備交易網(wǎng)站上查找出出售除塵器的企業(yè)，參考一些除塵器企業(yè)的報(bào)價(jià)，貨比三家。

ICP干法刻蝕系統(tǒng)文獻(xiàn)

干法刻蝕工藝總結(jié) 干法刻蝕工藝總結(jié)

格式：pdf

大?。?span id="zzo9941" class="single-tag-height">1.6MB

頁數(shù)： 13頁

評分： 4.7

干法刻蝕工藝總結(jié) 離子束刻蝕機(jī)（ IBE-150A） 背景 : 利用輝光放電原理將氬氣分解為氬離子， 氬離子經(jīng)過陽極電場的加速對樣品表面 進(jìn)行物理轟擊， 以達(dá)到刻蝕的作用。 把 Ar、Kr 或 Xe之類惰性氣體充入離子源放 電室并使其電離形成等離子體， 然后由柵極將離子呈束狀引出并加速， 具有一定 能量的離子束進(jìn)入工作室， 射向固體表面撞擊固體表面原子， 使材料原子發(fā)生濺 射，達(dá)到刻蝕目的，屬純物理過程。 技術(shù)指標(biāo)： 裝片：一片六英寸襯底、或 1片四英寸，向下兼容。 抽氣速度： 30min由 ATM 到 1.0×10-3Pa 極限真空度： 2×10-4Pa 離子能量： 300eV-400eV ICP 刻蝕機(jī)（ OXFORD ICP 180） 背景 : 通入反應(yīng)氣體使用電感耦合等離子體輝光放電將其分解， 產(chǎn)生的具有強(qiáng)化學(xué)活性 的等離子體在電場的加速作用下移動(dòng)到樣品表面， 對樣品表面既進(jìn)行化學(xué)

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第二章干法刻蝕的介紹 第二章干法刻蝕的介紹

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大?。?span id="ppaffsy" class="single-tag-height">1.6MB

頁數(shù)： 7頁

評分： 4.5

第二章干法刻蝕的介紹 2. 1刻蝕、干法刻蝕和濕法腐蝕 2. 1 .1關(guān)于刻蝕 刻蝕，是指用化學(xué)或物理方法有選擇地從硅片表面去除不需要的材料的過程。 刻蝕的基 本目的，是在涂膠 (或有掩膜 )的硅片上正確的復(fù)制出掩膜圖形 [1]。 刻蝕，通常是在光刻工藝之后進(jìn)行。 我們通常通過刻蝕， 在光刻工藝之后，將想要的圖 形留在硅片上。從這一角度而言，刻蝕可以被稱之為最終的和最主要的圖形轉(zhuǎn)移工藝步驟。 在通常的刻蝕過程中，有圖形的光刻膠層〔或掩膜層 )將不受到腐蝕源顯著的侵蝕或刻蝕， 可作為掩蔽膜， 保護(hù)硅片上的部分特殊區(qū)域， 而未被光刻膠保護(hù)的區(qū)域， 則被選擇性的刻蝕 掉。 2.1.2 干法刻蝕與濕法刻蝕 在半導(dǎo)體制造中有兩種基本的刻蝕工藝：干法刻蝕和濕法腐蝕。 干法刻蝕， 是利用氣態(tài)中產(chǎn)生的等離子體， 通過經(jīng)光刻而開出的掩蔽層窗口， 與暴露于 等離子體中的硅片行物理和化學(xué)反應(yīng)，刻蝕掉硅片上暴露的

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1. 反應(yīng)腔室本底真空： < 1 x 10-6 mbar (1x 10-4 Pa)，抽真空2小時(shí)后 2. 反應(yīng)腔室漏率： < 5 x 10-4 mbar？l/s 3. 預(yù)真空室本底真空： < 1 x 10-1 mbar (10 Pa) 4. 預(yù)真空室漏率： < 5 x 10-4 mbar？l/s 5. 樣片操作： 不同設(shè)置：樣片進(jìn)/出 6. 氣路系統(tǒng)： 測試所有質(zhì)量流量計(jì)（設(shè)定值10%, 50%, 90%） 7. 壓力控制： 壓力計(jì)/控制閥，不同壓力 8. 下電極溫度控制： 不同設(shè)置，-30oC~ 200oC（帶循環(huán)冷卻器Chiller）或RT~ 250oC（外接冷卻水） 9. 等離子體測試： 不同設(shè)置（Ar或N2） 10. 反射功率： ≤ 1%，ICP功率 ≥ 500 W≤ 5 W，ICP功率 < 500 W 11. 其他： 安全互鎖、運(yùn)行工藝處方（Recipe）等 12. SiC刻蝕工藝 Cr掩膜 刻蝕深度：≥ 2 μm 刻蝕速率：≥ 400 nm/min 選擇比：≥ 40:1 （SiC: Cr） 片上不均勻性：在50 mm范圍內(nèi) ≤。

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主要功能：等離子刻蝕是利用高頻輝光放電效應(yīng)，使反應(yīng)氣體激活成活性粒子，如原子或游離基，這些活性粒子擴(kuò)散到需刻蝕部位，與被刻蝕材料進(jìn)行反應(yīng)，形成揮發(fā)性反應(yīng)物而被去除。其優(yōu)勢在于快速的刻蝕速率同時(shí)可獲得良好的物理形貌。

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ICP年檢

目錄ICP年檢的定義ICP辦理展開ICP年檢的定義ICP辦理展開

編輯本段ICP年檢的定義

根據(jù)《中華人民共和國電信條例》、《電信業(yè)務(wù)經(jīng)營許可證管理辦法》、《電信設(shè)備進(jìn)網(wǎng)管理辦法》的有關(guān)規(guī)定，已取得各省地區(qū)直轄市電信增值業(yè)務(wù)經(jīng)營許可證的經(jīng)營單位，對取得信息產(chǎn)業(yè)部頒發(fā)的跨地區(qū)電信業(yè)務(wù)經(jīng)營單位的各地區(qū)分支機(jī)構(gòu)以及獲得電信設(shè)備進(jìn)網(wǎng)許可證生產(chǎn)企業(yè)和持證單位在每年的規(guī)定時(shí)間內(nèi)進(jìn)行再次備案。

以2010年ICP年檢為例

參檢單位

（一）2009年9月30日以前獲得各省市自治區(qū)直轄市通信管理局頒發(fā)的增值電信業(yè)務(wù)經(jīng)營許可證的經(jīng)營單位須參加年檢?！?/p>

（二）2009年9月30日以前獲得信息產(chǎn)業(yè)部頒發(fā)的跨省經(jīng)營增值電信業(yè)務(wù)經(jīng)營許可證并在北京市通信管理局辦理了備案核準(zhǔn)手續(xù)的經(jīng)營單位須參加年度檢查。

報(bào)送年檢的有關(guān)材料要求

參加年檢單位需報(bào)送的材料（請一律使用A4紙打印，持多個(gè)業(yè)務(wù)許可的單位請備齊材料一次報(bào)送）?！?/p>

（一）報(bào)送增值電信業(yè)務(wù)經(jīng)營許可證年檢報(bào)告\業(yè)務(wù)年檢報(bào)表（網(wǎng)上下載，用計(jì)算機(jī)填寫法人簽字并加蓋公章）　

（二）增值電信業(yè)務(wù)經(jīng)營許可證原件（參加過年檢的單位需持年檢合格通知書。）　

（三）工商營業(yè)執(zhí)照副本復(fù)印件　

（四）公司2009年度財(cái)務(wù)會(huì)計(jì)報(bào)告（損益表、現(xiàn)金流量表、資產(chǎn)負(fù)債表）　

（五）公司經(jīng)營報(bào)告：內(nèi)容包括

2008年公司電信業(yè)務(wù)經(jīng)營情況整體回顧

2008年公司新增電信業(yè)務(wù)或欄目、對電信市場環(huán)境的情況分析

2009年公司業(yè)務(wù)發(fā)展規(guī)劃。

（六）2009年度電信業(yè)務(wù)經(jīng)營許可證年檢調(diào)查問卷。

凡未參加年檢或年度檢查的，將視為自動(dòng)放棄并將按有關(guān)規(guī)定對所發(fā)許可和備案進(jìn)行注銷處理。

年檢時(shí)間：年檢工作將從2010年3月1日開始到2010年3月31日止。

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