可刻蝕各種尺寸形狀的樣品， 最大面積達1000 cm2。

等離子一體刻蝕機造價信息

市場價 信息價 詢價
材料名稱 規(guī)格/型號 市場價
（除稅）		 工程建議價
（除稅）		 行情 品牌 單位 稅率 供應(yīng)商 報價日期
二三頭一體機 119cm×89cm×135cm 查看價格 查看價格

達創(chuàng)

 件 13% 河北達創(chuàng)體育器材有限公司
大腿內(nèi)外翻一體機 3.0mm 查看價格 查看價格

達創(chuàng)

 件 13% 河北達創(chuàng)體育器材有限公司
倒蹬斜蹲一體機 2170×1610×1260 查看價格 查看價格

180

 件 13% 河北達創(chuàng)體育器材有限公司
坐式伸腿曲腿一體機 151x106x162 查看價格 查看價格

240

 件 13% 河北達創(chuàng)體育器材有限公司
空氣凈化消殺一體機 FX-J010電子凈化箱、442×417×242mm 查看價格 查看價格

綠粵

 臺 13% 深圳市綠粵生態(tài)科技有限公司
空氣凈化消殺一體機 FX-J030電子凈化箱、608×440×665.8mm 查看價格 查看價格

綠粵

 臺 13% 深圳市綠粵生態(tài)科技有限公司
等離子配件 P80參數(shù):電噴機用;種類:焊割配件; 查看價格 查看價格

得瑞

 套 13% 濟南萬林機械設(shè)備有限公司
等離子配件 P80參數(shù):電噴普通;種類:焊割配件; 查看價格 查看價格

得瑞

 套 13% 濟南萬林機械設(shè)備有限公司
材料名稱 規(guī)格/型號 除稅
信息價		 含稅
信息價		 行情 品牌 單位 稅率 地區(qū)/時間
紅外高清球機 查看價格 查看價格

臺 廣東2021年4季度信息價
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臺 廣東2021年3季度信息價
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臺 廣東2020年2季度信息價
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臺 廣東2020年1季度信息價
紅外高清球機 查看價格 查看價格

臺 廣東2022年1季度信息價
紅外高清球機 查看價格 查看價格

臺 廣東2021年1季度信息價
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臺 廣東2019年4季度信息價
紅外高清球機 查看價格 查看價格

臺 廣東2022年3季度信息價
材料名稱 規(guī)格/需求量 報價數(shù) 最新報價
（元）		 供應(yīng)商 報價地區(qū) 最新報價時間
經(jīng)濟技術(shù)指標 40層|04.2m層高 1 查看價格 0 廣東  佛山市 2009-05-12
UV光氧+等離子一體機 (1)型式:臥式(2)設(shè)置場所:室內(nèi)外皆可放置(3)本體設(shè)計耐壓:800mmAq(4)主體材質(zhì):Q235B×2T(5)本體尺寸(mm)L3000×W1400×H1400mm(6)雙波段燈管:32組燈管(7)前置粉塵過濾器(8)等離子模塊2組|4臺 1 查看價格 河北博森環(huán)保設(shè)備有限公司 全國   2019-06-19
等離子UV一體機 型號:ZZSWT-200規(guī)格:2470×1200×1800(mm)材質(zhì):不銹鋼304水泵功率:3(KW)處理風量:20000(m3/h)進出風口尺寸:Ф800(mm)20組紫外線光氧發(fā)生器,20等離子管,組4組控制箱,兩組空氣均風凈化器(一組空氣均風過濾,二氧化鈦光觸媒)|1臺 1 查看價格 深圳市德天泰環(huán)?？萍加邢薰?/span> 廣東   2021-06-08
一體化光等離子發(fā)生裝置 1.電器特性:單相 / 220V / 50Hz2.安裝方式:離子發(fā)生器箱體3.凈化成分及效率:(1)氨 、硫化氫、甲硫醇、甲硫醚等有毒有害氣體≥80%;(2)臭氣、異味≥90%;(3)苯、甲醛、多環(huán)|1臺 1 查看價格 一體化光等離子發(fā)生裝置 1.電器特性:單相 / 220V / 50Hz2.安裝方式:離子發(fā)生器箱體3.凈化成分及效率:(1)氨 、硫化氫、甲硫醇、甲硫醚等有毒有害氣體≥80%;(2)臭氣、異味≥90%;(3)苯、甲醛、多環(huán)|1臺 1 查看價格 一體機 HPMFPM775DN,A3彩色多功能一體機,打印/復(fù)印/掃描/數(shù)字發(fā)送一體機|1臺 1 查看價格 廣州忠泰辦公設(shè)備有限公司    2015-06-05
道閘一體機 道閘一體機|4套 1 查看價格 深圳達實智能股份有限公司 廣東   2022-06-09
智能交互一體機 智能交互一體機|2臺 1 查看價格 廣州市保倫電子有限公司 全國   2019-11-26

薄膜刻蝕。 2100433B

等離子一體刻蝕機技術(shù)指標常見問題

  • 等離子隱身技術(shù)誰了解？

    等離子體隱身技術(shù)的原理是利用電磁波與等離子體互相作用的特性來實現(xiàn)的，其中等離子體頻率起著重要的作用。等離子體頻率指等離子體電子的集體振蕩頻率，頻率的大小代表等離子體對電中性破壞反應(yīng)的快慢，它是等離子體...

  • 低溫等離子體的技術(shù)開發(fā)

    國內(nèi)外企業(yè)利用低溫等離子體技術(shù)在環(huán)保方面開發(fā)出了“低溫等離子體有機廢氣凈化設(shè)備”、“低溫等離子體廢水凈化設(shè)備”及“低溫等離子體汽車尾氣凈化技術(shù)”。1、低溫等離子體在保鮮、殺菌、除臭等方面產(chǎn)品開發(fā)，目前...

  • 低溫等離子體技術(shù)是什么？

    低溫等離子體物理與技術(shù)經(jīng)歷了一個由60年代初的空間等離子體研究向80年代和90年代以材料為導(dǎo)向研究領(lǐng)域的大轉(zhuǎn)變，高速發(fā)展的微電子科學、環(huán)境科學、能源與材料科學等，為低溫等離子體科學發(fā)展帶來了新的機遇和...

等離子一體刻蝕機技術(shù)指標文獻

等離子體刻蝕過程中有害氣體凈化的原理和方法 等離子體刻蝕過程中有害氣體凈化的原理和方法

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大?。?span id="n1jq5jl" class="single-tag-height">320KB

頁數(shù)： 3頁

評分： 3

等離子體刻蝕過程中有害氣體凈化的原理和方法——敘述了等離子體刻蝕過程中產(chǎn)生的有害氣體以及處理這些有害氣體的原理和方法。對燃燒分解、化學中和、 薄膜吸氣、等離子體凈化及脈沖電暈放電等作了簡要的概述。指出等離子體凈化和脈沖電暈放電是凈化有害氣體的...

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TEGAL421等離子刻蝕機射頻電源的維修及調(diào)整 TEGAL421等離子刻蝕機射頻電源的維修及調(diào)整

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大?。?span id="7xoa1lg" class="single-tag-height">320KB

頁數(shù)： 3頁

評分： 4.8

TEGAL421 等離子刻蝕機射頻電源的維 修及調(diào)整 TEGAL421 等離子刻蝕機射頻電源的電路圖如下： 各部分電路的作用， DC Power Supply Board 板是一塊電源板提供射頻源 工作所需的各路電源，包括電子管工作的高低壓。 OSICLACTOR Board 板提供 射頻源的激勵信號， Q1是震蕩管，Q4是推動管，Q3,Q2組成脈寬功率調(diào)節(jié)電路。 V1和 V2是兩個輸出電子管，提供所需的射頻功率。其中 Lv 是低壓變壓器，機 器一通電，該變壓器就被通電。而 BV 是高壓變壓器，只有在需要射頻輸出時才 被通電。 Power Coupler 是入射功率和反射功率檢測模塊。主機背面的電位器 R5 和 R6 用于矯正入射和反射功率的偏差。 Test Port 測試端口用于檢測射頻電 源的工作參數(shù)。 射頻電源的調(diào)整 射頻電源調(diào)整的步驟如下： 1. 關(guān)閉交流電源。 2. 移除射頻電源

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等離子刻蝕機濕法刻蝕相對于等離子刻蝕的缺點

1. 硅片水平運行，機片高(等離子刻蝕去PSG槽式浸泡甩干，硅片受沖擊小);

2. 下料吸筆易污染硅片(等離子刻蝕去PSG后甩干);

3. 傳動滾抽易變形(PVDF，PP材質(zhì)且水平放置易變形);

4. 成本高(化學品刻蝕代替等離子刻蝕成本增加)。

此外，有些等離子刻蝕機，如SCE等離子刻蝕機還具備"綠色"優(yōu)勢:無氟氯化碳和污水、操作和環(huán)境安全、排除有毒和腐蝕性的液體。SCE等離子刻蝕機支持以下四種平面等離子體處理模式:

直接模式--基片可以直接放置在電極托架或是底座托架上，以獲得最大的平面刻蝕效果。

定向模式--需要非等向性刻蝕(anisotropic etching)的基片可以放置在特制的平面托架上。

下游模式--基片可以放置在不帶電托架上，以便取得微小的等離子體效果。

定制模式--當平面刻蝕配置不過理想時，特制的電極配置可以提供。

查看詳情

1、 硅片水平運行，機片高（等離子刻蝕去PSG槽式浸泡甩干，硅片受沖擊?。?；

2、下料吸筆易污染硅片（等離子刻蝕去PSG后甩干）；

3、傳動滾軸易變形（PVDF，PP材質(zhì)且水平放置易變形）；

4、成本高（化學品刻蝕代替等離子刻蝕成本增加）。

此外，有些等離子刻蝕機，如SCE等離子刻蝕機還具備“綠色”優(yōu)勢：無氟氯化碳和污水、操作和環(huán)境安全、排除有毒和腐蝕性的液體。SCE等離子刻蝕機支持以下四種平面等離子體處理模式：

直接模式——基片可以直接放置在電極托架或是底座托架上，以獲得最大的平面刻蝕效果。

定向模式——需要非等向性刻蝕（anisotropic etching）的基片可以放置在特制的平面托架上。

下游模式——基片可以放置在不帶電托架上，以便取得微小的等離子體效果。

定制模式——當平面刻蝕配置不過理想時，特制的電極配置可以提供。

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等離子刻蝕機的組成一般包括等離子發(fā)生器(工業(yè)上常用RF激發(fā)法)，真空室，和電極。

其工作原理是用等離子體中的自由基(radical)去轟擊(bombard)或濺射(sputter)被刻蝕材料的表面分子，形成易揮發(fā)物質(zhì)，從而實現(xiàn)刻蝕的目的。也有部分等離子刻蝕機采用反應(yīng)離子刻蝕技術(shù)(Reactive Ion Etching)。

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