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更新時(shí)間:2025.06.21
基于紫外光刻的微納光纖布喇格光柵研究

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介紹紫外光刻法制作微納光纖布喇格光柵(MF-BG)的制作工藝,測(cè)量并分析不同直徑的微納光纖布喇格光柵的反射譜。數(shù)據(jù)表明隨著微納光纖的直徑變小,光纖光柵的中心波長(zhǎng)藍(lán)移且反射強(qiáng)度也隨之減小。仿真計(jì)算微納光纖的有效折射率和光纖纖芯的束縛能力(即基模分布在纖芯的能量與基模全部能量的比值),來(lái)解釋上述變化。

相位掩模法紅外飛秒激光刻寫(xiě)光纖光柵技術(shù)

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摻Tm3+光纖激光器在工業(yè)、醫(yī)療、科技及軍事領(lǐng)域具有重要應(yīng)用前景。光纖布拉格光柵(FBG)是構(gòu)成光纖激光器的重要元件。但摻Tm3+光纖不具備光敏性,利用紫外脈沖激光很難在其中刻寫(xiě)FBG,即使采用增敏技術(shù)提高其光敏性,獲得的FBG的折射率調(diào)制量也很小,尚不能滿足應(yīng)用要求,阻礙了摻Tm3+光纖激光器全光纖化的發(fā)展。以相位掩模法的基本原理為基礎(chǔ),從理論上分析了以飛秒激光為刻寫(xiě)光源的技術(shù)要點(diǎn),總結(jié)出與傳統(tǒng)紫外激光刻寫(xiě)技術(shù)之間的差異及需要注意的問(wèn)題。建立了飛秒激光相位掩模法刻寫(xiě)光纖光柵的實(shí)驗(yàn)系統(tǒng),利用飛秒激光相位掩模法在非光敏光纖上刻寫(xiě)B(tài)ragg光柵,在非光敏摻Tm3+硅基光纖上獲得了衍射階次為二的光纖Bragg光柵,并給出了顯微鏡下觀察到的光柵結(jié)構(gòu)。實(shí)驗(yàn)結(jié)果證明:飛秒激光可以將FBG刻寫(xiě)入非光敏性硅基光纖,并且具有成柵時(shí)間短的優(yōu)點(diǎn)。

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