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研磨 (HX) 一、研磨的目的及基本原理 1. 目的 :(1) 去除精磨的破壞層達到規(guī)定的外觀限度要求 (2) 精修面形 ,達到圓面規(guī)定的曲率半徑 R值 ,滿足面本數(shù) NR要求及光圈局部的曲率允差 (亞斯 )的要求 2. 基本原理 :通過機械的運動 ,經(jīng)過研磨皿 ,研磨劑與玻璃之間的化學(xué)作用 ,從而達到精度拋光的 目的 二、所需治具的種類及用途 1.研磨皿 :用來精磨鏡片 2.夾具 :用來盛裝鏡片 ,進行精磨 3. 中繼治具 :皿具與機臺之間的椄頭 ,可調(diào)節(jié)同軸度及高度 4. 合皿 :用來修復(fù)鉆修皿精度 5. 鉆修皿 :用來修正研磨皿精度 ,( 鉆修皿是由金鋼石鉆石顆粒料貼付而成的曲率面或是走形 曲率面 ,其精度一般為正皿 +2條 ,負皿 0~-1 條,修復(fù)研磨皮之用 ) 一、 研磨的主要控制點 1. 外觀有無定點、傷痕、砂目、破裂、青蛙皮、腐蝕 2. 面精度的亞斯、垂邊