電子薄膜用高純鋁及鋁合金濺射靶材

基本介紹

項(xiàng)目編號(hào)Plan Name in Chinese 20110426-T-610

中文項(xiàng)目名稱Plan Name in Chinese 電子薄膜用高純鋁及鋁合金濺射靶材

英文項(xiàng)目名稱Plan Name in English High Purity Aluminum and Aluminum Alloy Sputtering Targets for Electronic Thin Film Application

制\修訂Plan Name in English 制定

被修訂標(biāo)準(zhǔn)號(hào)Replaced Standard

采用國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)Adopted International Standard 無(wú)

采用國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)號(hào)Adopted International Standard No

采用程度Application Degree

采標(biāo)名稱Adopted International Standard Name

標(biāo)準(zhǔn)類別Plan Name in English 產(chǎn)品

國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)分類號(hào)(ICS)

計(jì)劃完成年限Suppose to Be Finished Year 2012年

完成時(shí)間Achievement Time

所處階段Plan Phase 起草階段

國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)號(hào)Standard No.

備注Remark 國(guó)標(biāo)委綜合[2011]57號(hào)

起草單位Drafting Committee 有研億金新材料股份有限公司

主管部門Governor 中國(guó)有色金屬工業(yè)協(xié)會(huì)

歸口單位Technical Committees 243 全國(guó)有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了集成電路用高純鈦濺射靶材的術(shù)語(yǔ)、定義、基本要求、技術(shù)要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則和標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸、貯存及質(zhì)量承諾和服務(wù)保證。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于集成電路中制造電子薄膜用的各類鈦濺射靶材。

主要完成人：

姚力軍（寧波江豐電子材料股份有限公司）

劉慶（重慶大學(xué)）

王學(xué)澤（寧波江豐電子材料股份有限公司）

周友平（寧波江豐電子材料股份有限公司）

袁海軍（寧波江豐電子材料股份有限公司）

邊逸軍（寧波江豐電子材料股份有限公司）

通常把純度（鋁含量）大于99.8%的純鋁叫做高純鋁（highpurity aluminium).它是以優(yōu)質(zhì)精鋁為原料，采用定向凝固提煉法生產(chǎn)的。高純鋁又可細(xì)分為次超高純鋁（鋁含量99.5%~99.95%)、超高純度鋁（鋁含量99.996%~99.999%）和極高純度鋁（鋁含量99.999%以上）。高純鋁呈銀白色，表面光潔，具有清晰結(jié)晶紋，不含有夾雜物。高純鋁具有低的變形抗力、高的電導(dǎo)率及良好的塑性等性能，主要被應(yīng)用于科學(xué)研究、電子工業(yè)、化學(xué)工業(yè)及制造高純合金、激光材料及一些其他特殊用途。產(chǎn)品一般以半圓錠或長(zhǎng)板錠供貨，每個(gè)半圓錠質(zhì)量不小于45kg.每個(gè)長(zhǎng)板錠質(zhì)量不大于25kg，長(zhǎng)板錠斷面尺寸一般為200mm*65mm，長(zhǎng)度不大于600mm.